#科技新星创作营# 中国光刻机技术的未来
随着美国对华为禁令的升级,华为再也不能像几年前那样向美国进口芯片了,其它中国科技公司虽然还可以继续向美国购买芯片,但却处处受到美国的掣肘。
如果不想重走中兴被制裁的老路,中国科技公司必须坚持走自主研发的道路,要想要制造更好芯片,就离不开高端的光刻机,没有它则意味着你虽然设计出了房子的图纸,却不能够将它建起来,其重要性不言而喻。
显然,以我国科技公司目前的技术实力还不能造出高端的光刻机。那么,为什么我们造不出来呢?
可能很多人都知道,光刻机是由紫外光源、光学镜片、对准系统等部件组装而成,其中需要来自美国的光源设备、德国的蔡司镜头和机械工艺,再配合上荷兰ASML的组装技术,一台光刻机才能够完整的诞生。光刻机需要的部件都是整个行业当中最顶级的技术,所以并不是那么容易就能够做到的。
以日本为例,在上个世纪90年代,日本掌握了光刻胶的制造技术,一时间称雄整个半导体市场,占有率最高的时候达到了93%。但是日本缺乏完整的工业体系,并不具备芯片生产所需要的整套技术,所以才会在台积电与荷兰ASML公司崛起后走向衰败。
很明显,摆在我们眼前的路有两条:一条是持续吸收并掌握世界先进科技,全面发展各项顶尖技术!另一条则是换道超车,比如跳过硅基半导体环节直接进入新的阶段,最后达到殊途同归!问题是,我们有希望另辟蹊径吗?
早在上世纪60年代,我们国家在制造氢弹的时候就创造出全球独一无二的“于敏构型”,这是中国科学家智慧的结晶。在高端光刻机技术上,相信通过国人的智慧和不懈努力,我们也能在不久的将来实现创新型的突破!